滲透/電去離子（RO/EDI）集成膜技術是近年來迅速發展成熟，并得到大規模工業應用的較新一代**純水制造技術，在**上已逐漸成為純水技術的主流。RO/EDI的集成膜技術在電子企業用水，實驗室純水系統，電廠用水等方面具有*特的優勢。

EDI技術是將膜法和離子交換法結合起來的新工藝，基本原理主要包括離子交換、直流電場下離子的選擇性遷移及樹脂的電再生。水中的離子首先通過交換作用吸附于樹脂顆粒上，再在電場作用下經由樹脂顆粒構成的“離子傳輸通道”遷移到膜表面并透過離子交換膜進入濃室。由于離子的交換、遷移及離子交換樹脂的電再生相伴發生，猶如邊工作邊再生的混床離子交換樹脂柱，因此可以連續不斷地制取高質量的純水、高純水。
EDI系統由增壓泵、膜堆、電源以及相應的儀器、儀表、閥門、機架、管道等組成。
主要應用于水的直接純化，電子工業純水的制備，以及其它各種水處理工藝的后續混床精處理。適用于出水要求高且不具備高要求再生條件的各水處理領域，諸如顯示設備﹑計算器硬盤﹑CD-ROM﹑精密線路板﹑離散電子設備等精密電子產品行業、醫藥及醫療、化妝品行業、精密機械加工行業等
**純水是為了研制**純材料（半導體原件材料、納米精細陶瓷材料等）應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其它適當的**臨界精細技術生產出來的水，其電阻率大于18 MΩ*cm，或接近18.3 MΩ*cm極限值（25℃）。
**純水專用精處理混床樹脂系采用**上**的核子級樹脂制造工藝，采用高純試劑經多道嚴格工序精制而得的一種**純精制樹脂（拋光樹脂）。
適合于應用在RO、EDI系統裝置中做為終端精制混床，用于電子產品生產、半導體材料制備等行業的**純水生產，**純水精制中，如生產磁盤驅動器、顯示設備、獨立的半導體設備、低密集成電路，或者用于后級集成電路的分塊和配件操作中,也可用于各種水處理工藝后進行的精處理，含放射性物質的水處理系統等。具有產品純度高，運行周期長，出水水質穩定，溶出物較低等特點。
當進水水質＞16.5MΩ.cm時，出水水質可達18MΩ.cm以上。且TOC含量水于5ppb。



是一種由凝膠型強酸陽離子交換樹脂與強堿陰離子交換樹脂組成并已再生預混好的即用型樹脂。該產品經高度轉型及特殊純化處理，按照特定化學當量混合復配而成。
主要應用于水的直接純化，電子工業純水的制備，以及其它各種水處理工藝的后續混床精處理。適用于出水要求高且不具備高要求再生條件的各水處理領域，諸如顯示設備﹑計算器硬盤﹑CD-ROM﹑精密線路板﹑離散電子設備等精密電子產品行業、醫藥及醫療、化妝品行業、精密機械加工行業等
**純水可以在以下領域使用 [4] ：
（1）電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
（2）化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等。
（3）單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝。
（4）高壓變電器的清洗等

**純水的工藝流程
2.1 預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象 （≥15MΩ.CM）(傳統工藝)

1,PH范圍:0-14
　　2,允許溫度:鈉型≤120氫≤100
　　3,膨脹率%:(NA+到H+):≤10
　　4,工業用樹脂層高度m:≥1.0
　　5,再生液濃度%:NACL6-10HCL5-10H2SO4:2-4
　　6,再生劑用量kg/m3(按**計工業品):NACL75-150HCL40-100H2SO4:75-150
　　7,再生液流速m/h:5-8
　　8,再生接觸時間Minute:30-60
　　9,正洗流速m/h:10-20
　　10,正洗時間minute:約30
　　11,運行流速m/h:10-40
　　12,工作交換容量mmol/l(濕):食鹽再生≥1000鹽酸再生≥1500

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