PlasmaMS 300型質(zhì)譜儀將ICP的高溫電離特性與四較桿質(zhì)譜計的靈敏快速掃描的優(yōu)點相結合而形成一種新型的有力的元素分析、同位素分析和形態(tài)分析技術。該技術具有檢出限低、動態(tài)線性范圍寬、干擾少、分析精度高、速度快、可進行多元素同時測定等優(yōu)異的分析性能，已從初在地質(zhì)科學研究的應用迅速發(fā)展到環(huán)境保護、半導體、生物、、冶金、石油、核材料分析等領域。

PlasmaMS 300 的污染控制
在使用**SMAMS 300進行分析的時候，必須盡可能控制污染。污染會導致數(shù)據(jù)出錯，其結果是 背景增高，從而導致檢出限提高。
污染來源： 1.實驗室環(huán)境：空氣中的塵埃（特別是Al）是常見的污染源。通過過濾、凈化空氣和高 效濾網(wǎng)（HEPA），降低污染源。
2. 水：去離子化系統(tǒng)生產(chǎn)的水其阻抗需達到18.2Mohm/cm。
3.試劑：應用于樣品和標品中酸、溶劑和鹽必須為高純度。移液管或其他器具不應接觸試 劑容器。能小量分裝后用一次性移液器移取。
**SMAMS 300使用的容器：FEP, PTFE, LDPE, HDPE, PMP 和 PP等應先使用酸洗。 樣品制備：減少稀釋步驟，使用一次性塑料微量移液器頭（酸洗），在通風櫥里面準備。 要排查污染來源往往是漫長而艱難的工作。因此，建議用戶遵循“按部就班”的方式
(Step-by-step approach)來進行污染控制：
? 儀器背景(Instrument background)
? 水空白(Water blank)
? 酸空白(Dilute acid blank)
? 樣品空白(Sample preparation blank)
Step-by-step  approach實際上是檢查實驗過程中用到的所有空白，來尋找污染的來源。 污染可存在于儀器、水、稀釋液、酸、試劑、樣品空白或儲存容器中。
污染也可能存在于標樣母液中。下圖示例就是在Ca元素單標溶液中存在著Ba和Sr的污染：
上圖中所展示的受到Sr和Ba污染的Ca標液是AA級別的，用戶應當從正規(guī)供應商處采購合適純度級別的標準樣品。

PlasmaMS 300儀器組成與工作原理
ICP-MS全稱電感耦合等離子體質(zhì)譜（Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)主要包括以下功能模塊：進樣系統(tǒng)、ICP離子源、接口單元、離子傳輸系統(tǒng)、桿質(zhì)量分析系統(tǒng)、離子檢測及和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、整機控制系統(tǒng)與軟件系統(tǒng)。
圖2.1  PlasmaMS 300型結構示意圖
其工作原理是：待測樣品通過進樣系統(tǒng)進入離子源部分，在被 ICP射頻電源離子化后，在接口及離子傳輸系統(tǒng)中通過聚焦、消除干擾后進入四較桿質(zhì)量分析器，在其中離子將按照質(zhì)荷比（m/z）大小被分開，經(jīng)過聚焦后，達到檢測器。檢測器將不同質(zhì)荷比的離子流通過接收、測量及數(shù)據(jù)處理轉(zhuǎn)換成電信號經(jīng)放大、處理后得到分析結果。
2.2 主機部件
儀器主機的主要部件有：進樣系統(tǒng)、ICP離子源、接口單元、離子傳輸系統(tǒng)、桿質(zhì)量分析系統(tǒng)、離子檢測及和數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、整機控制系統(tǒng)與軟件系統(tǒng)。
進樣系統(tǒng)包含蠕動泵、進樣管排樣、霧化器、霧室、玻璃彎管、炬管；
ICP離子源包括包含功放箱、匹配箱；
接口單元包括接口、水腔、提取透鏡；
離子傳輸系統(tǒng)包括π透鏡、碰撞反應池、透鏡組；
桿質(zhì)量分析系統(tǒng)包括桿、饋入件；
離子檢測及數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)主要包括電子倍增器、電子倍增器支架；
真空系統(tǒng)包括機械泵、2個分子泵、真空腔體、潘寧規(guī)；
整機控制系統(tǒng)包含各種控制電路模塊。
2.3 裝置
智能溫控冷卻循環(huán)水箱是重要的裝置，它冷卻接口、線圈、離子源和分子泵。
穩(wěn)壓電源是能為負載提供穩(wěn)定交流電的電子裝置。當電網(wǎng)電壓或負載出現(xiàn)瞬間波動時，穩(wěn)壓電源會以10ms~30ms的響應速度對電壓幅值進行補償，使其穩(wěn)定在±2%以內(nèi)。

PlasmaMS 300同位素選擇
有的元素只有一種同位素，因此被稱為單同位素元素。大多數(shù)的元素都有多種同位素供 選。.
多同位素元素(Multi-isotopic)
? Copper(Cu), selenium(Se), lead(Pb), mercury(Hg), erbium(Er), ytterbium(Yb), lutetium(Lu)
單同位素元素(Mono-isotopic)
? Beryllium(Be), sodium(Na), aluminum(Al), manganese(Mn), cobalt(Co), arsenic(As), bismuth(Bi), holmium(Ho), thulium(Tu)
當需要從多個供選同位素中選擇合適的同位素來對目標元素進行分析的時候，可以從以 下幾個方面進行考慮：
例如: 1.靈敏度或動態(tài)線性范圍是考慮的主要因素嗎?
如果需要優(yōu)先考慮靈敏度的話，絕大多數(shù)情況下，挑選相對豐度比的同位素是正確的
選擇。如果有的樣品中目標元素濃度高，有的目標元素濃度低，彼此之間濃度差異很大， 那么此時就需要優(yōu)先考慮擴展該元素的動態(tài)線性范圍，此時應當選擇相對豐度比較小的同 位素來進行檢測。
2.你的樣品中是否包含了會造成干擾的大量元素？ 有的時候，選擇豐度比的同位素反而達不到降低檢出限的目的，因為樣品基體成分中 可能含有別的干擾元素，對目標同位素造成了同位素干擾或多原子分子干擾。此時選擇另 一個雖然豐度比相對低一些但是不受干擾的同位素來進行測量才是正確的。基體干擾中比
較常見的是氧化物干擾。基體中的干擾同位素形成氧化物后，會直接影響質(zhì)量數(shù)比它大
16的同位素的測定結果。

鋼研納克檢測技術股份有限公司（代碼:300797）是*企業(yè)中國鋼研科技集團有限公司（鋼鐵研究總院）的二級單位，從事分析儀器裝備和分析檢測技術的研究、開發(fā)和應用的**創(chuàng)新型企業(yè)。目前公司提供的主要服務或產(chǎn)品包括分析檢測儀器、第三方檢測服務、標準物質(zhì)/標準樣品、能力驗證服務等檢測相關產(chǎn)品與延伸服務。鋼研納克不僅是中國分析儀器設備制造的行業(yè)企業(yè)，也是國內(nèi)元素檢測領域儀器種類、綜合實力的儀器裝備和分析測試技術的研究機構之一。公司及子公司牽頭制修訂7項、參與制修訂20余項、制定170余項及行業(yè)標準；研制家級標準物質(zhì)/標準樣品300多種。力爭成為測試儀器裝備領域有影響力的**競爭參與者、成為具有**影響力的材料表征評價認證的和綜合解決方案的提供者。鋼研納儀器產(chǎn)品主要包含：電感耦合等離子體質(zhì)譜儀,ICPMS,ICP光譜儀,國產(chǎn)ICP,國產(chǎn)ICP-MS,ICP光譜分析儀,電感耦合等離子體光譜儀,電感耦合等離子體**光譜儀,食品重金屬檢測儀、土壤重金屬檢測儀、波長色散X射線熒光光譜儀、金屬原位分析儀、脈沖熔融-飛行時間質(zhì)譜儀、試驗機、環(huán)保監(jiān)測設備等技術水平的檢測裝備，其中多款儀器*（屬國內(nèi)臺套）。產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定，檢測數(shù)據(jù)可靠，累計市場占有率**國內(nèi)行業(yè)**，部分產(chǎn)品成為同類產(chǎn)品的業(yè)界，牽頭制定了相關儀器和檢測標準。鋼研納克檢測技術股份有限公司是國內(nèi)早使用和開發(fā)ICP光譜儀和ICP-MS的科研單位之一，依托鋼鐵材料測試中心，培育了一批ICP光譜儀和ICP-MS應用和儀器。ICP光譜儀產(chǎn)品標準GB/T 36244-2018和ICP-MS儀器計量檢定規(guī)程GB/T 34826-2017的起草單位。重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位，*ICP系列分析儀器的發(fā)展。擁有30多年ICP方法開發(fā)經(jīng)驗，懂ICP應用的國產(chǎn)ICP&ICP-MS制造商。免費培訓，解決客戶應用方法的難題，讓您ICP光譜儀和ICP-MS用的！，上市公司，品質(zhì)之選！. 聯(lián)系人:文經(jīng)理 電話 手機.