氧化鎵的別名是三氧化二鎵，氧化鎵（Ga2O3）是一種寬禁帶半導體，Eg=4.9eV，其導電性能和發光特性長期以來一直引起人們的注意。Ga2O3是一種透明的氧化物半導體材料，在光電子器件方面有廣闊的應用前景 ，被用作于Ga基半導體材料的絕緣層，以及紫外線濾光片。它還可以用作O2化學探測器

二氧化鋯（化學式：ZrO2）是鋯的主要氧化物，通常狀況下為白色無臭無味晶體，難溶于水、鹽酸和稀硫酸。一般常含有少量的二氧化鉿。化學性質不活潑，且具有高熔點、高電阻率、高折射率和低熱膨脹系數的性質，使它成為重要的耐高溫材料、陶瓷絕緣材料和陶瓷遮光劑，亦是人工鉆的主要原料。能帶間隙大約為5-7eV

二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃、水玻璃、光導纖維、電子工業的重要部件、光學儀器、工藝品和耐火材料的原料，是科學研究的重要材料。

氧化鎵是一種新興的功率半導體材料，其帶隙大于硅，氮化鎵和碳化硅，但在成為電力電子產品的主要參與者之前，仍需要開展更多的研發和推進工作

公司是生產高**屬材料，蒸發鍍膜材料以及濺射材的應用開發的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以擁有多名中技術人員和化應用實驗室，具有很強的蒸發材料開發能力。公司先后研發的蒸發材料、濺射材系列產品廣泛應用到國內外眾多電子、太陽能企業當中，以較高的性價比，成功發替代了國外進口產品，頗受用戶好。