藍星宇總代理日本SEN森 紫外線清洗機PM11012
 
產品特點：紫外線光清洗機
UV紫外線光表面清洗機可以運用于LCD，OLED顯示器，觸摸屏，半導體鬼片，光學玻璃，刺頭，集成電路板，高精密印制電路板，塑料，香蕉燈生產中隊各種表面進行光清洗或光改質處理。 
產品描述：
紫外線光處理的原理是運用低壓汞燈中185nm波長分解氧氣，使氧氣分解為O3（臭氧）和氧原子O-。氧原子具有很強的酸性，可以深入分子內部，最終將CO2,H2O,O2,N2,燈分解為其分子，然后以氣體形式從表面會發消失，這就是清洗效果。但是UV光清洗還有一個弱點，就是對于細微灰塵則無法清洗。 
產品規格：
采用110瓦直管光清洗燈 12燈設計。
使用燈管 SUV110US-55
照射面積 650×800mm
照射距離 10mm～40mm
可處理面積650×800mm
電壓  3項 200V
電流  3A
功率  1970W
冷卻方式 水冷
傳送帶速度 可調

紫外線UV光清洗技術的應用范圍:
1.各種材料(ITO玻璃,光學玻璃,鉻板,掩膜版,拋光石英晶體,硅)晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理;
2.清除石臘,松香,油脂,人體體油以及殘余的光刻膠/聚酰亞胺和環氧樹脂
3.高精度PCB焊接前的清洗和去除殘余的焊劑以及敷銅箔層壓板的表面清潔和氧化層生成；
4.超高真空密封技術和熱壓焊接前的表面清潔處理以及各種微型元件的清洗
5。在LCD、OLED, Touch Panel科研/生產中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經過光清洗，可以極大的提高基體表面潤濕性，增強基體表面的粘合力； 
6。印制電路板生產中，對銅底板，印刷底板進行光清洗和改質，在導線焊接前進行光清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強度。特別是高精度印制電路板，當線距達到亞微米級時，光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質量。 
7。大規模集成電路的密度越來越高，晶格的微細化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，光清洗可以有效地實現表面的原子清潔度，而且對芯片表面不會造成損傷。  
8。在半導體生產中，硅晶片涂保護膜、鋁蒸發膜前進行光清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發生 
9。在光盤的生產中，沉積各種膜前作光清洗準備，可以提高光盤的質量。 
10。磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強度，光清洗后效果更好。 
11。石英晶體振蕩器生產中，除去晶體檢測后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發沉積前，進行光清洗可以提高鍍膜質量和產品性能。 
12。在IC卡表面插裝ROM前，經過光清洗可提高產品質量。 
13。彩色濾光片生產中，光清洗后能徹底洗凈表面的有機污染物。 
14。敷銅箔層壓板生產中，經過光照改質，不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護氧化層，產品質量顯著提高 
15。光學玻璃經過紫外光清洗后，鍍膜質量更好。 
16。樹脂透鏡光照后，能加強與防反射板的粘貼性。

典型應用包括：
         ?表面的原子級清洗
         ?聚合物粘接
         ?去除有機分子
         ?釋放捕獲的無機分子
         ?微流控制作
         ?微米/納米構型
         ?紫外光固化
         ?表面化學改性
         ?表面殺菌
         ?表面氧化
         ?金屬粘結準備……
         .光酸化水處理,促進酸化水處理
         .光重合反應
SEN UV光清洗, 短短幾十秒, 表面超潔凈 !

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