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景德鎮(zhèn)逸德陶瓷有限公司專業(yè)生產(chǎn)定制：辦公用瓷套裝，禮品瓷套裝，高檔茶杯，茶具，餐具，筆筒，煙灰缸，紀念瓷盤，桌凳、大缸、噴泉、大花瓶、賓館酒店用瓷等各種禮品瓷，可根據(jù)客戶需要在茶杯，碗，瓷盤，花瓶上設計各種畫面、印制LOGO（圖標）或廣告語，有紀念意義的字等。圖案經(jīng)上千度高溫窯燒制而成，*不變色、不褪色。是同學聚會留念，戰(zhàn)友聚會，生日聚會，單位周年慶典、校慶紀念、結婚紀念，公司開業(yè)慶典，會議茶杯，旅游紀念等可以選擇紀念品。
景德鎮(zhèn)陶瓷廠家生產(chǎn)供應陶瓷大瓷盤，開業(yè)禮品陶瓷大瓷盤，喬遷禮品陶瓷大瓷盤，商務禮品陶瓷大瓷盤，手繪青花陶瓷大瓷盤，手繪粉彩陶瓷大瓷盤，裝飾品陶瓷大瓷盤，景德鎮(zhèn)高檔陶瓷大瓷盤、賞盤、看盤、擺盤、掛盤。景德鎮(zhèn)陶瓷瓷廠生產(chǎn)的陶瓷大瓷盤適用于商務辦公場合、酒店大堂裝飾、酒店餐廳巨型器皿、大堂隔間屏風、工地竣工紀念、名人肖像館紀念等。景德鎮(zhèn)大瓷盤常規(guī)規(guī)格在1米-1.5米，畫面有蟲魚鳥獸，梅蘭竹菊，蓮花，植物，樓閣，牡丹，龍紋，庭院國畫等。由于大瓷盤直徑太大，通過模具制作是根本不可行的。因此制作這款陶瓷大瓷盤從泥胚的制作開始都是人工手工拉坯、修坯，待泥坯干燥后，用特殊的陶瓷顏料將精選的畫面手繪到瓷盤上面。大瓷盤的燒制是經(jīng)過1300攝制度的高溫燒制而成，這一特性是的我們的陶瓷大瓷盤畫面可*保存、**退染色。 
陶瓷大瓷盤較初是從泥坯制作成型，所以瓷盤的直徑越大，使得這款大瓷盤不論是在拉坯成型、還是進入窯爐燒制上風險性都很大。反之來說就是成品率低，而作為禮品的陶瓷大瓷盤則是在這少數(shù)的成品中精挑細選的精品。可以說幾乎每一塊陶瓷大瓷盤禮品都是精品，并且市場上一模一樣的產(chǎn)品也不多。在禮品的選擇上，送禮都是選擇有檔次、精致品作為饋贈禮品。眾所周知陶瓷易碎，所以愈加顯得珍貴。但就算陶瓷易碎，仍然有很多大型的饋贈禮品客戶都是可以選擇陶瓷產(chǎn)品，借此來顯示雙方都很珍惜彼此的關系。 所以說選擇陶瓷大瓷盤作為禮品，是非常有面子的。陶瓷大瓷盤的大小規(guī)格和瓷盤盤面的畫面可根據(jù)客戶的特定需求定制。
    此外我們承接各類加工訂單業(yè)務，如陶瓷花瓶、陶瓷茶杯、陶瓷罐子、陶瓷紀念盤、筆筒煙灰缸、餐具、茶具，瓷版畫等大件裝飾品。

景德鎮(zhèn)市逸德陶瓷有限公司（原逸德瓷廠）位于景德鎮(zhèn)市中國瓷園錦繡昌南雍正街18號，以生產(chǎn)經(jīng)營日用瓷，陳設藝術瓷和景觀瓷為主打產(chǎn)品，是一家集陶瓷設計、研發(fā)，陶瓷加工生產(chǎn)為一體的零售批發(fā)綜合型企業(yè)。
公司自逸德瓷廠創(chuàng)辦至今10余年。注重工藝技術的不斷創(chuàng)新，將傳統(tǒng)工藝與現(xiàn)代科技成果相結合，公司定位于集陶瓷定制、研發(fā)生產(chǎn)、批發(fā)零售于一體，已實現(xiàn)生產(chǎn)規(guī)模化、管理現(xiàn)代化、服務配套化。公司自成立以來，先后榮獲“誠信單位” 、“守信企業(yè)” 并通過ISO9001質量管理體系認證。公司現(xiàn)有員工122人，其中陶瓷技術人員20名，與國內外多家科研機構、大專院校有合作，與國內外多個大中型企業(yè)長期保持友好貿易往來，為企業(yè)的發(fā)展奠定了堅實的基礎。 
誠信為本，塑造品牌是逸德陶瓷不懈的追求，我們將竭誠為您提供**的產(chǎn) 品和完善的服務。
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陶瓷品種多種多樣，其燒成過程的物理化學變化及產(chǎn)品的化學礦物組成也各不相同。但從共性來看，粘土質陶瓷的燒成過程物理化學變化大致可劃分為9個階段：1、20~200 ℃，排出殘余水入窯水分要求：<1%，  快燒<0.5%， 升溫速度：20~30 ℃／h。
2、200~500 ℃，排除結構水指粘土礦物中的結晶水和層間水，安全階段，可快燒，40~50 ℃／h
3 、500~700 ℃，石英晶型轉化573 ℃時,體積膨脹，易變形干裂，升溫應慢，升溫速度：20~30 ℃／h
4、700~1050，氧化階段進行氧化反應和分解反應。硫化鐵，**物氧化，碳酸鹽、硫酸鹽、氫氧  化鐵分解，放出二氧化硫和二氧化碳及水蒸氣等氣體，應在釉面封閉以前氧清氧透，**良好的氧化氣氛和充分的氧化時間，減少窯內溫差，適當進行中火保溫，否則易出現(xiàn)質量缺陷，如黑點、青邊、發(fā)黃、氣泡等。氣氛要求：O2=4~5%，CO<1%
5、 1050~1200，還原階段使氧化鐵還原成氧化亞鐵，褐色變?yōu)榍嗌纳浦破飞珴桑_到白里泛青，即“白如玉”的效果。要求：升溫慢，使氣體充分排除，減少坯泡**氣氛，避免重新氧化，CO=2~4%**時間，以利于還原反應進行徹底