CWD300LMDC數碼倒置明暗場金相顯微鏡
 
一.金相顯微鏡儀器用途
CWD300LMDC型數碼倒置明暗場金相顯微鏡采用優良的無限遠光學系統，暗視場功能對觀察材料表面缺陷有特殊效果。可提供**的光學性能。緊湊穩定的高剛性主體，充分體現了顯微操作的防振要求。照明系統充分考慮散熱性與*性，可**更換燈泡。符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊。可用于半導體硅晶片、LCD基板、固體粉未及其它工業試樣的顯微觀察，是材料學、精密電子工程學等領域研究的理想儀器。內置二次開發包的數字攝像系統，進口的芯片由中科院屬企業精心打造，細膩逼真的圖像效果是儀器高品質標準的重要體現，同時免去使用者攝像頭裝卸和同步校正的麻煩。
二、金相顯微鏡技術規格
1.目鏡：大視野WF10X(視場數Φ22mm)
2.無窮遠平場消色差明暗場專用物鏡:
PL L 5X/0.12  B.D  工作距離(Work distance)：9.7 mm
PL L10X/0.25 B.D  工作距離(Work distance)：9.3 mm
PL L20X/0.40 B.D  工作距離(Work distance)：7.2 mm
PL L50X/0.70 B.D  工作距離(Work distance)：2.5 mm
3.目鏡筒: 45?傾斜,瞳距調節范圍53~75mm
4.調焦機構:粗微動同軸調焦,帶鎖緊和限位裝置,微動格值:2μm
5.載物臺:機械移動載物臺，外形尺寸：242mmX200mm，移動范圍30mmX30mm.
6.圓形可旋轉載物臺板尺寸：較大外徑Ф130mm，較小通光口徑小于Ф12mm
7.照明系統: 6V/30W鹵素燈
8.攝像系統：內置300萬像素數字攝像系統,儀器可直接與計算機相連接

類型 金相顯微鏡 ** 測維 型號 CWD300LMDC 目鏡放大倍數 10X 物鏡放大倍數 5X/10X/20X/50X 儀器放大倍數 50~500X 重量 15000（g） 適用范圍 半導體硅晶片、LCD基板、固體粉未及其它工業試樣的顯微觀察，是材料學、精密電子工程學等領域研究的理想 裝箱數 1 加工定制 是 明暗場功能 對觀察材料表面缺陷有特殊效果