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金屬分析儀是我公司引進歐洲技術生產,是目前較**的**公認的*二代CCD光譜儀技術, 廣泛應用于冶金、鑄造、機械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領域的生產工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。儀器體積小、穩定性好、檢測限低、分析速度快、運行成本低、操作維護方便，是控制產品質量的理想選擇。 主要特點： 1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術覆蓋了全元素分析范圍，可根據客戶需要選擇通道元素； 2、分析速度快捷，20秒內測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及標線，使儀器用較短的時間達到較優的分析效果； 3、光學系統采用非真空恒溫光室， 激發時產生的弧焰由透鏡直接導入真空光室，實現光路直通,*了光路損耗，提高檢出限，測定結果準確，重現性及長期穩定性較佳； 4、特殊的光室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半； 5、自動光路校準，光學系統自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定； 6、開放式的電極架設計，可以調整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析； 7、工作曲線采用**標樣，預做工作曲線，可根據需要延伸及擴展范圍，每條曲線由多達幾十塊標樣激發生成，自動扣除干擾； 8、HEPS固態光源，適應各種不同材料 ； 9、固態吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運行穩定性； 10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能； 11、合理的氬氣氣路設計，使樣品激發時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半； 12、采用鎢材料電極，電極使用壽命更長，并設計了電極自吹掃功能，清潔電極更加*； 13、高性能DSP及ARM處理器，具有**高速數據采集及控制功能并自動實時監測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發室等模塊 的運行狀況； 14、儀器與計算機之間采用以太網連接，抗干擾性能好，外部計算機升級與儀器配置無關，使儀器具有更好的適用性； 15、核心器件全部**進口，**了儀器良好**的品質。 產品參數指標： 光學系統 光學結構 帕邢-龍格結構的全譜真空型光學系統 光室溫度 自動控制恒溫：35℃±0.5℃ 波長范圍 160-800nm 光柵焦距 350 mm 光柵刻線 2160 l/mm 一級光譜線色散率 1.2 nm/mm 探測器 多塊高性能線陣CCD 平均分辨率 10pm/pixel 激發臺 氣體 沖氬式 氬氣流量 激發時3-5L/min， 待機時:無須待機流量 電極 鎢材噴射電極技術 吹掃 點擊自吹掃功能 補償 熱變形自補償設計 分析間隙 樣品臺分析間隙：4mm 激發光源 類型 HEPS固態光源 頻率 100-1000Hz 放電電流 1-80A 特殊技術 放電參數優化設計 預燃 高能預燃技術 數據采集系統 處理器 高端ARM處理器，高速數據同步采集處理 接口 基于DM9000A的以太數據傳輸 電源與環境要求 輸入 220VAC 50Hz 功率 分析時較大700W，待機狀態40W 工作溫度 10-30℃（該溫度范圍內溫度變化不大于5℃/h） 工作濕度 20-80% 尺寸與重量 尺寸 800*450*500 mm 重量 85Kg

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