清洗機(jī)范圍如下：

?光學(xué)器件——照相機(jī)鏡頭，顯微鏡，望遠(yuǎn)鏡，碳?xì)淝逑礄C(jī)，眼鏡，鐘表玻璃，光學(xué)透鏡的研磨后，鍍膜前清洗。

液晶（LCD）制造——LCD基板鍍ITO膜前清洗， LCD基片刻蝕，灌注液晶的前道，后道工序清洗。

?電子制造、通訊、計(jì)算機(jī)——SMT貼片，PCB板焊接后的助焊劑，碳?xì)淝逑礄C(jī)價(jià)格，雜質(zhì)清洗。

微電子——單晶硅片，集成電路制造的工序過(guò)程清洗。

真空碳?xì)湓O(shè)備

真空清洗工作原理：清洗劑中殘存的氣體較多，含氣量是水的8-10倍，超聲波振動(dòng)子發(fā)出的高周波遇到氣體（殘存氧氣）就會(huì)衰減，影響了超聲波的精密清洗效果。超聲波空化效應(yīng)也難以展開(kāi)，因此需要真空脫氣。首先清洗籃進(jìn)入清洗槽。這時(shí)氣缸驅(qū)動(dòng)槽蓋自動(dòng)關(guān)閉清洗槽，真空碳?xì)淝逑礄C(jī)，真空脫氣系統(tǒng)啟動(dòng)，將槽內(nèi)空氣抽盡，超聲波碳?xì)淝逑礄C(jī)，在真空狀態(tài)下可以將需要清洗的產(chǎn)品的狹小縫隙內(nèi)氣體及含在清洗劑中的氣體抽出，超聲波啟動(dòng)，搖擺裝置啟動(dòng)，帶動(dòng)洗籃轉(zhuǎn)動(dòng)，使清洗劑可以充分進(jìn)行清洗；到設(shè)定的時(shí)間后，真空釋放，缸蓋打開(kāi)，清洗籃進(jìn)入下一槽

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