南通南博旺多靶離子束濺射鍍膜機是研究**導、類金剛石、光學、磁性等高質量薄膜和材料表面改性的光機一體化的現代化鍍膜設備。該機采用四靶、雙離子源、離子源為考夫曼源。
其原理是利用具有1500ev能量的正離子束或中性粒子轟擊靶材料，使材料表面的原子和分子從母材中濺射出來，利用雙離子源、主槍，對靶材轟擊，輔槍在鍍前對基片進行清洗，增強基片的活性，提高結合力及純度。
沉積過程中低能轟擊膜，增強沉積原子表面擴散和遷移，減少薄膜結晶結的缺陷，并配有對基片處理的各種功能，如加熱、冷卻、旋轉、激光處理、掩膜等。引出柵φ25mm離子能量，1500ev能量束流大于80mA。
多靶離子束濺射鍍膜機系統在高精度光學薄膜沉積應用中處于良好地位。多靶離子束濺射鍍膜機是當今僅存的在同一系統可互換使用行星型，簡單旋轉型或可翻轉型基片裝置的系統。
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真空鍍膜機的操作方法介紹
真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜儀器，主要思路是分成蒸發和濺射兩種。真空鍍膜機的應用是很復雜的，用戶需要掌握一定的操作知識。下面小編就來具體介紹一下真空鍍膜機的操作方法，希望可以幫助到大家。
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