東莞市鼎偉靶材有限公司是專業生產高**屬材料，蒸發鍍膜材料以及濺射靶材的高新技術企業應用開發的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以青島大學和青島科技大學蒸發材料專業為技術依托，擁有多名中高級專業技術人員和專業化應用實驗室，具有很強的蒸發材料開發能力。公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品廣泛應用到國內外眾多**電子、太陽能企業當中，以較高的性價比，成功發替代了國外進口產品，頗受用戶**。
滄州AU靶材
東莞市鼎偉靶材有限公司
聯系人：肖先生
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電話：0769-88039551
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郵箱：dingwei586@
地址：東莞市南城區民間金融大廈
公司主要經營產品：
一、真空鍍膜材料
1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）
高**屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……
多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……
陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…
稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…
稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶
金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：
金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、**低阻系列（ZYCD）。
2．高純光學鍍膜材料（99.99％——99.999％）
氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…
氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…
硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

貴金屬：金、銀、鉑、釕、銠、鈀、鋨、銥
高**：金靶、金粒、金絲、金電極、金片、金粉
純度：3N 、3N5、4N、4N5、5NT(不是聯系方式)
規格：金靶（平面圓靶，方靶，旋轉靶，臺階靶均可加工，規格按客戶要求定做）  金粒（規格Φ2*5mm,Φ2*10mm，其他規格定做）
 金絲（Φ0.2mm、Φ0.3mm、Φ0.5mm、Φ1mm其他規格定做）
 金片（根據客戶要求定做）
 金粉（根據客戶要求定做）

靶材是電子工業實現各種功能鍍膜的材料，因此靶材行業的發展主要還是依賴于下游應用產業的進步。而近年來新材料、微電子的發展，各種光電薄膜、磁性薄膜以及電子薄膜在這些高新技術領域廣泛應用。高新技術產業的發展，也讓靶材的生產逐漸趨于專業化。可以說，靶材行業是微電子產業的關鍵支撐。
據《中國靶材行業報告》的統計，我國靶材產業的市場規模逐年擴大，僅濺射靶材在半導體集成電路領域的應用規模目前就已經達到十多億元。作為制備和生產功能薄膜的方法之一，濺射法廣泛應用于許多領域。它是目前制備金屬薄膜較常用的工藝。作為高技術用的靶材是一種全新的概念。隨著高技術用新材料突飛猛進的發展，世界靶材的市場銷售規模日益擴大
【原創內容】
要確保在靶材和濺射槍冷卻壁之間建立很好的導熱連接。如果用冷卻壁的翹曲程度嚴重或背板翹曲嚴重會造成靶材安裝時發生開裂或彎曲，背靶到靶材的導熱性能就會受到很大的影響，是無氧銅，因為無氧銅具有良好的導電性和導熱性，而且比較容易機械加工。如果保養適當，無氧銅背靶可以重復使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的情況下，如氣體(氬氣或氧氣)必須清潔并干燥，濺鍍腔內裝入基材后便需將空氣抽出，達到工藝所要求的真空度。暗區屏蔽罩，腔體壁及鄰近表面也需要保持潔凈。在清洗真空腔體時我們建議采第二步與第一步類似用酒精清潔；第三步用去離子水清洗。在用去離子水清洗過后再將靶材放置在烘箱中以100攝氏度烘干30分鐘。氧化物及陶瓷靶材的清洗建潔用“無絨布”進行導致在濺射過程中熱量無法散發較終會造成靶材開裂或脫靶為確保足夠的導熱性，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請注意一定要仔細檢查和明確所使用濺射槍冷卻壁的清潔。第四步在清除完有污垢的區域后，再用高壓低水氣的氬氣沖洗靶材，以除去所有可能在濺射系統中會造成起弧的雜質微粒三、靶材安裝靶材安裝過程中較重要的注意事項是一定平整度，同時確保O型密封圈始終在位置上。四、短路及密封性檢查靶材完成安裝后需要對整個陰極進行短路檢查及密封性檢查，建議通過使用電阻儀搖表的方式對陰極是否存在短用戶對背靶的檢查結果，如我們發現有需要維修的地方會書面通知客戶并提供維修報價。影響靶材中毒的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例，反應氣體過量就會導致靶中毒。反應

公司是生產高**屬材料，蒸發鍍膜材料以及濺射材的應用開發的科技型民營股份制工貿有限公司。公司以擁有多名中技術人員和化應用實驗室，具有很強的蒸發材料開發能力。公司先后研發的蒸發材料、濺射材系列產品廣泛應用到國內外眾多電子、太陽能企業當中，以較高的性價比，成功發替代了國外進口產品，頗受用戶好。