RF濺射裝置SVC-700RFI薄膜制作設備

特點：

小型緊湊尺寸

簡便操作

不必說金屬薄膜，較適合絕緣膜和抗氧化膜制作

小型的裝備和選擇性

濺射陰極水冷式磁控管

φ2英寸×1源濺射方向下降RF電源200W　13.56MHz

手動BOX付チャンバー部φ160mm×H311mm(給部含)　SUS制

水冷管付/水冷管真空泵DP：200l/sec　RP：20l/min

TMP：67l/sec(@N2)　RP：20l/min　(選擇)到達壓力

圧力測定ピラニー真空計氣體導入機構質量流量控制器　Ar：30sccm尺寸、重量(本體)W787/D400/H859mm　約80kg

※高度及重量根據(jù)構成變動。所要電源單相100V　50/60Hz　15A

選項：

電離真空計

ピラニー真空計

水晶振動子式膜厚監(jiān)視器

基板加熱單元（300℃/ 600℃的類型）

基板冷卻單元

基板旋轉傾斜單位

碳蒸發(fā)用閃光燈電源

EB淀積單元（單- Gun）

有機質蒸發(fā)用電源

φ160毫米不銹鋼制鐘形

φ230毫米不銹鋼制鐘形

氣體導入裝置

外部導入端子

液體氮氣圈閉（排氣用）

單層膜制作用真空鍍膜裝置SVC-700TMSG/EB

特點：

單層膜制作較適合的小型類型

由于電阻加熱蒸發(fā)電源的追加，更可對應多層膜和厚

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