PECVD產品簡介：此款設備配有Plasma實現等離子增強，滑軌式設計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個**的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環境下，得到**的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置，可準確的控制反應腔體內部的氣體壓力，帶刻度的調節閥對于做低壓CVD非常簡單實用，工藝重復性好，對于石墨烯生長工藝非常合適，也同樣適用于要求**升降溫的CVD實驗。
主要功能和特點：

1、利用輝光放電產生等離子體電子*氣相；
2、提高了氣相反應的沉積速率、成膜質量；
3、可通過調整射頻電源頻率來控制沉積速率；
4、能廣泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。


滑軌管式爐技術參數



	石英管尺寸	L1400mm  Φ（60、80、100）
	加熱元件	摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲
	測溫元件	K型熱電偶
	加熱區長度	400mm  
	恒溫區長度	200mm
	工作溫度	≤1100℃
	控溫模式	模糊PID控制和自整定調節，智能化30段可編程控制，具有**溫和斷偶報警功能
	控溫精度	±1℃
	升溫速率	≤20℃/min
	電功率	AC220V/50HZ/3KW
質量供氣系統技術參數




	外形尺寸	600x600x600mm
	標準量程	50sccm（CH4）、200sccm（H2）、500sccm（Ar、N2）； 
	壓力表測量范圍	-0.1Mpa～0.15Mpa
	極限壓力	3MPa
	針閥	316不銹鋼
	截止閥	Φ6mm 316不銹鋼針閥
	電功率	AC220V/50HZ/20W
	響應時間	氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec
	準確度	±1.5%
	線性	±0.5～1.5%
	重復精度	±0.2%
	接口	Φ6,1/4''
真空系統技術參數




	外型尺寸	600×600×600mm
	工作電電壓	220V±10%  50~60HZ
	功率	400W
	抽氣速率	4L\s
	極限真空	4X10-2Pa
	實驗真空度	1.0X10-1Pa
	容油量	1.1L
	進氣口口徑	KF25
	排氣口口徑	KF25
	轉速	1450rpm
射頻電源
	信號頻率	13.56 MHz±0.005%
	功率輸出范圍	3W-300W   5W-500W可選
	較大反射功率	200W
	射頻輸出接口	50 Ω, N-type, female
	功率穩定度	±0.1%
	諧波分量	≤-50dbc
	供電電壓	單相交流（187V-253V） 頻率50/60HZ
	整機效率	>=70%
	功率因素	>=90%
	冷卻方式	強制風冷
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