電池組件
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用單晶硅基底通過光刻、PECVD、PVD、ICP等方法加工各類微米級圖形 圖形加工精度：1um，加工范圍：2-8英寸（含不規(guī)則片） ? ? ? ? ? 硅片陣列圓孔深刻蝕 ? ? ? ? ?深刻蝕圓孔 ? ? ? ? ? 硅4um光柵刻蝕

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