M2全譜直讀光譜儀
 M2
全新立式全譜光譜采用標準的設計和制造工藝技術，采用全數字技術，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術，采用真空光學室設計及全數字激發光源、ＣＣＤ檢測器，高速數據讀出系統，使儀器具有高的性能、低的檢出線、長期的穩定性和重復性。適用于金屬制造業、加工業及金屬冶煉業用于質量監控、材料牌號識別、材料研究和開發的主要設備之一。

M系列全譜直讀光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術，全數字化及互聯網技術結合，運用高分辯率CMOS檢測器，精密設計的氬氣吹掃系統，使儀器具有更高的性能、更低的成本、以及較具竟爭力的價格。
 
M2可應用于多種材料的分析。
01 小巧、輕便、精致、可靠的儀器結構，具有同類型直讀光譜儀優異的分析數據。
02 **小設計的光學室結構及優化設計的氬氣吹掃系統，**紫外區元素譜線的透過率。
03 應用高分辯多CMOS讀出系統，更低的暗電流、更好的檢出限、更高的穩定性、更強的靈敏度。
04 全數字化的智能復合光源DDD技術，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同元素的激發要求。
05 FPGA數據采集及以太網網絡數據傳輸技術，**數據一致性及數據傳輸速率。
06 內置工廠校正曲線及曲線擴展技術，滿足不同材料的技術要求。
07互聯網網絡技術及數據云儲存。
08 操作簡單、維護成本低、質量可靠。
09 具竟爭力的價格。
精密設計的氬氣吹掃系統
光室密封性強，可保持內部氬氣長期純凈。
光室空間優化設計，降低氬氣消耗，有效節約產生成本。
低氬氣吹掃系統，確保光室UV波段測量環境。
光室充氬免除復雜的真空系統。
 高分辯率CMOS檢測器實現全譜分析
譜線覆蓋了所有的重要元素，滿足所有基體和材料的分析。
高靈敏的紫外區檢測，對N的分析檢測更準確。
可有效選擇元素靈敏線，**分析的準確度。
多峰擬合技術，有效消除譜線干擾，實現精準測量

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