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    賽米萊德(圖)-光刻膠 PR1-1500A1 -光刻膠

  • 作者: 北京賽米萊德貿易有限公司 2019-12-11 13:00 1360
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    NR9-1000py

    問題回饋:

    1.我們是LED制造商,麻煩**幾款可以用于離子蝕刻和Lift-off工藝的光刻膠。

    A 據我所知,Futurrex

    有幾款膠很,NR7-1500P

    NR7-3000P是專門為離子蝕刻

    設計的,NR9-3000PY可以用于Lift-off上的應用。

    2.請問有沒有可以替代goodpr1518,Micropure去膠液和goodpr顯影液的產品?

    A 美國光刻膠,Futurrex

    正膠PR1-2000A

    , 去膠液RR4,和顯影液RD6可以解決以上問題。

    3.你們是否有可以替代Shipley

    S1805的用于DVD的應用產品?

    A 我們建議使用Futurrex

    PR1-500A , 它有幾個優點:比較好的解析度,比較好的線寬控制,

    反射比較少,不需要HMDS,RIE后去除容易等~

    4. 求助,耐高溫的光阻是那一種?

    A Futurrex, NR7 serious(負光阻)Orpr1 serious(正光阻),光刻膠PR1-40A??,再經過HMCTS

    silyiation process,可以達到耐高溫200度,PSPI透明polyimide,可耐高溫250度以上。

    5.厚膜光阻在鍍金應用上,用哪一種比較理想?

    A Futurrex , NR4-8000P比干膜,和其他市面上的濕膜更加適合,和理想。

    6.請教LIFT-OFF制程哪一種光阻較適合?

    A 可以考慮使用Futurrex

    ,正型光阻PR1,負型光阻用NR1&NR7,光刻膠 PR1-1500A1 ,它們都可以耐高溫180度,完全可以取代一般制作PATTERN的光阻。

    7.請問,那位專家知道,RIE

    Mask,用什么光阻比較好?

    A 正型光阻用PR1系列,負型光阻使用NR5,兩種都可以耐高溫180度。

    8.一般厚膜制程中,哪一種光阻較適合?

    A NR9-8000P有很高的深寬比(**過4:1),一般厚膜以及,MEMS產品的高需求。

    9.在DEEP

    RIE和MASK 可以使用NRP9-8000P嗎?

    A 建議不使用,因為使用NR5-8000更加理想和適合。

    10.我們是OLED,我們有一種制程上需要一層SPACER,那種光阻較適合?

    A 有一種膠很適合,美國Futurrex

    生產的NR1-3000PY

    and和

    NR1-6000PY,都適合在OLED制程中做spacers



    NR9-250P

    20.有沒有光刻膠PC3-6000的資料嗎?

    A PC3-6000并不是光刻膠,它是用在chip

    on glass 上的膠粘劑。

    21.是否有Wax替代品?

    A PC3-6000可替代Wax做晶片和玻璃的固定,比較容易去除掉。

    22.貴公司是否有粘接硅襯底和襯底的材料?

    A 有,IC1-200就是

    23.請問是否有不用HMDS步驟的正性光刻膠?

    A 美國Futurrex 整個系列的光刻膠都不需要HMDS步驟,都可以簡化。

    24.一般電話咨詢光刻膠,我們應該向客戶咨詢哪些資料?

    A 1 需要知道要涂在什么材質上,2

    還有要知道需要做的膜厚,3

    還要知道光刻膠的分辨率

    4還有需要正膠還是負膠,5

    需要國產還是進口的

    27.想找一款膜厚在120um,的光刻膠,有什么光刻膠可以做到啊!

    A 以前有使用過美國有款光刻膠可以達到Futurrex

    NR21-20000P ,光刻膠,。

    28.有沒有了解一款美國Futurrex

    NR9-250P的光刻膠,請教下?

    A 這是一款負性光刻膠,濕法蝕刻使用的,附著力很好,光刻膠PC3-700,耐100度的溫度,國內也有可以代理的公司,Futurre

    光刻膠是世界*4大的電子化學品制造商,在光刻膠的領域有著不錯的聲譽,在太陽能光伏,和LED半導體行業都有不錯的市場占有率。

    29.想找款膜厚的產品,進行蝕刻,有什么好**?

    A 厚膜應用(thick

    film applicati),主要是指高縱橫比(Aspect

    ratios),高分辨率,高反差,有幾款產品向你**一下《NR4-8000P,NR2-20000P,NR5-8000,這些產品都需要用到邊膠清洗液》


    的光刻


    下游發展趨勢

    光刻膠的質量和性能是影響集成電路性能、成品率及可靠性的關鍵因素。光刻工藝的成本約為整個芯片制造工藝的35%,并且耗費時間約占整個芯片工藝的40%到50%。光刻膠材料約占IC制造材料總成本的4%,市場巨大。因此光刻膠是半導體集成電路制造的核心材料。2016年**半導體用光刻膠及配套材料市場分別達到14.5億美元和19.1億美元,分別較2015年同比增長9.0%和8.0%。預計2017和2018年**半導體用光刻膠市場將分別達到15.3億美元和15.7億美元。隨著12寸**技術節點生產線的興建和多次曝光工藝的大量應用,193nm及其它**光刻膠的需求量將快速增加


    賽米萊德(圖)-光刻膠 PR1-1500A1 -光刻膠由 北京賽米萊德貿易有限公司提供。“光刻膠”就選 北京賽米萊德貿易有限公司(),公司位于:北京市北京經濟技術開發區博興九路2號院5號樓2層208,多年來,賽米萊德堅持為客戶提供好的服務,聯系人:況經理。歡迎廣大新老客戶來電,來函,親臨指導,洽談業務。賽米萊德期待成為您的長期合作伙伴!


    北京賽米萊德貿易有限公司位于北京市北京經濟技術開發區,毗鄰中芯**,京東方,RFMD------等**半導體、LCD工廠。在半導體,LED,TFT-LCD,太陽能光伏領域具有十年以上的進口設備代理和安裝維修經驗。是一家致力于LED,MEMS,光電半導體,太陽能光伏工廠及實驗室所需設備、耗材的全套解決方案提供商,專業經銷歐美日韓**品牌光電半導體制程儀器設備,零附件,耗材,對中國國內廣大客戶提供全面的產品咨詢和技術銷售服務。一直專注于微電子、微細加工及半導體工藝等領域設備的研發,是此領域集技術開發、技術支持及服務營銷為一體的**企業.公司主要產品有Futurrex光刻膠、勻膠機(SpinCoater)、光刻機(曝光機-LithographySystem)、KOSAKA表面輪廓儀等,其廣泛應用于微電子、光電子、通訊、微機械、新能源等領域,適用于大專院校、科研機構和相關行業生產企業進行教學實驗、科學研究和產品開發與批量生產,為光電半導體化工實驗室全方面解決方案供應商。


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