北京冠金利新材料科技有限公司長(zhǎng)期為您供應(yīng)高純鉻靶，高純鉻靶材以及高純鉻相關(guān)產(chǎn)品，高純鉻靶材產(chǎn)品詳情如下：
 1、 高純鉻靶的純度為：99.5%，99.8%，99.95%，99.99%
 2、 高純鉻靶的常用規(guī)格：高純鉻管靶，高純鉻環(huán)靶，長(zhǎng)度20-400mm,直徑:50-120mm,管厚：5-10mm.
 3、 高純鉻靶的生產(chǎn)工藝：熱等靜壓，粉末冶金。
 4、 高純鉻顆粒：常用粒度有：1-3mm,3-5mm,40目，-20-300目，40#，60#，80#，200#等用于蒸發(fā)鍍膜，純度高，蒸鍍效果好。
 5、 高純鉻條：?0.3，?0.5，?1.0等。
 6、 高純鉻的相關(guān)參數(shù)：Formula: Cr 
 7、 外觀：銀灰色
 8、 規(guī)格：粒、粉、靶材，條。
 9、 密度：7.2
 10、 熔點(diǎn)：1890℃
 蒸發(fā)溫度：Evaporation Temperture: 1430 ℃ 
 北京冠金利新材料科技有限公司為您供應(yīng)高純鋁靶材及鋁的相關(guān)鍍膜產(chǎn)品，主要包括：
 1、 高純鋁靶:本公司供應(yīng)適合于輝光放電濺射、射頻輝光濺射、磁控濺射、離子束濺射、離子鍍用的高純鋁靶材。
 2、 高純鋁靶材純度為：99.9%，99.99%，99.999%，99.9999%。
 3、 高純鋁靶材的規(guī)格：（1）平面靶材如?100*5mm平面高純圓鋁靶，150*100*3平面高純板鋁靶材，（2）磁控濺射用高純鋁靶：?100*120柱靶等。
 4、 高純鋁靶的原材料生產(chǎn)工藝：真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等。
 5、 高純鋁靶材加工工藝：車，銑，等。
 6、高純鋁靶材相關(guān)參數(shù)的介紹：外觀：銀白色 密度：2.70 g/cm3 熔點(diǎn)： 660℃沸點(diǎn)：2463℃ 。以上是北京冠金利新材料科技有限公司對(duì)高純鋁靶的相關(guān)介紹，高純鋁靶材規(guī)格尺寸可根據(jù)客戶要求定做，也可按圖紙加工，如有疑問(wèn)，請(qǐng)來(lái)電咨詢！
 
 1、高純銅靶：平面靶常用規(guī)格如圓銅靶?76.2*5板靶：400*100*10 ，2、高純銅靶磁控旋轉(zhuǎn)柱靶，如?65*80等。
 3、高純銅靶純度為99.95%-99.9999%。
 4、高純銅靶產(chǎn)品通過(guò)各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應(yīng)用真空鍍膜的各種領(lǐng)域：科學(xué)研究，航天航空，汽車，微電子，集成電路產(chǎn)業(yè)，光源，光學(xué)，裝飾，平面顯示器產(chǎn)業(yè)，信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)等等。
 5、各種規(guī)格尺寸可根據(jù)客戶要求定做，也可按圖紙加工
 
 北京冠金利新材料科技有限公司長(zhǎng)期供應(yīng)高純鈦及高純鈦靶，高純鈦靶材，純度為99.9%-99.999%，本公司**生產(chǎn)金屬鍍膜材料，鈦靶是我們的主營(yíng)靶材之一，主要用于濺射鍍膜，各大科研院所及高校實(shí)驗(yàn)。高純鈦靶的相關(guān)介紹如下：
 1、 高純鈦靶材的純度為99.5%，99.9%，99.99%，99.999%。
 2、 平面高純鈦靶材常用規(guī)格：?100*4，?76.2*6，100*400*10等。
 3、 柱狀高純鈦靶：100*80，125*63等等。
 4、 高純鈦靶的規(guī)格尺寸可根據(jù)客戶要求定做，也可按圖紙加工。
 5、 高純鈦靶的生產(chǎn)工藝：真空熔煉，熔融鑄造，粉末冶金，熱壓，冷（熱）等靜壓等技術(shù)。
 6、 蒸鍍用高純鈦絲：?0.2-3。
 7、 蒸發(fā)用高純鈦顆粒:6*6,2*10,3*3等。
 
 
 北京冠金利其它靶材：各種高**屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、鍍膜材料。金屬靶材：鋁靶Al、銀靶Ag、鈷靶Co、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶Zr、鈦鋁靶Ti、鋯靶Zr、鉭靶Ta、鍺靶Ge、硅靶Si、鎢靶W、鉿靶Hf、釓靶Gd、釤靶Sm、鏑靶Dy、鈰靶Ce、釔靶Y、鑭靶La 金靶Au 等。
 合金靶材：鈦鋁Ti-Al、鋁硅Al-Si、鋁銅Al-Cu、鋁鈦Al-Ti、銀銅Ag-Cu、鋁鎂Al-Mg、鈷鐵硼Co-Fe-B、銅銦鎵Cu-In-Ga、鐵錳Fe-Mn、銦錫In-Sn、鈷鐵Co-Fe、鎳鈷Ni-Co、鎳鐵Ni-Fe、鎳鉻Ni-Cr、鎳鋯Ni-Zr、鎳鋁Ni-Al、鎳銅Ni-Cu、鎳釩Ni-V、鎢鈦W-Ti、鋅鋁Zn-Al、鋁鈦硼Al-Ti-B、鋁鈧Al-Sc、釩鋁 V-Al 、 鐵V-Al-Fe、銅錫Cu-Sn、鋯鋁Zr-Al、釩鋁V-Al、硼鐵B-Fe等。
 陶瓷靶材 
 　　ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、等陶瓷靶材。產(chǎn)品通過(guò)各種方法（磁控濺射、真空鍍等）應(yīng)用真空鍍膜的各種領(lǐng)域：科學(xué)研究，航天航空，汽車，微電子，集成電路產(chǎn)業(yè)，光源，光學(xué)，裝飾，平面顯示器產(chǎn)業(yè)，信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)，數(shù)據(jù)存儲(chǔ)等等。
 注所有產(chǎn)品規(guī)格可根據(jù)客戶要求定做。