本設(shè)備用途和特點(diǎn)介紹：

 ●為小型熔煉爐

    主要是通過(guò)對(duì)坩鍋容器對(duì)鋼鐵瞬間感應(yīng)升溫后進(jìn)行熔煉、提純、等工藝。

 1.針對(duì)鋼鐵等金屬高熔  點(diǎn)金屬進(jìn)行熔化。

 2.單次貴金屬熔量1-250KG、單次熔化時(shí)間2-30分鐘。

 3.較高爐溫可達(dá)1500-2000度。

  ●本產(chǎn)品技術(shù)為市場(chǎng)上較新較技術(shù)，匯集多名國(guó)內(nèi)外**專家的科研成果，成功的由較

    初的電子管技術(shù)→晶體管MOSFET技術(shù)→IGBT模塊技術(shù)之間轉(zhuǎn)換升級(jí)。所有機(jī)型都

    配有IGBT模塊技術(shù)，使產(chǎn)品穩(wěn)定性方面做到更好!

 ●本產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)： 

  1.重量輕、體積小.

  2.提純效率高。

  3.安裝方便操作簡(jiǎn)單。

  4.升溫速度快，升溫后溫度恒定。

  5.此設(shè)備操作*、環(huán)保。

  6.保護(hù)全：設(shè)有過(guò)壓、過(guò)流、進(jìn)熱、缺水等報(bào)警裝置，并自動(dòng)控制和保護(hù)。