產品介紹
簡要介紹: 
 
1200度真空井式坩堝爐是由石英坩堝或者氧化爐坩堝，和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。工作溫度區間800℃至1200℃。該系列設備的控制系統**良好，具有安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，爐膛溫度均勻性高，可通氣氛抽真空等特點，廣泛應用于高等院校，科研院所，工礦企業等實驗和小批量生產。 真空井式坩堝爐以進口含鉬電阻絲或者硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，具有真空裝置，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。 

主要用途： 

高校、科研院所、工礦企業主要用于煅燒真空或惰性氣體中的高純度化合物，退火或擴散半導體晶片，也可以用于烘燒或燒結陶瓷材料等。 
 
詳細參數 
 
產品型號 
 SG2V-1-12TP 
 
工作電源 
 AC220V 50/60HZ 
 
爐膛尺寸 
 外徑205x內徑190x高340mm 
 
額定功率 
 ≤3kw 
 
外形尺寸 
 450x550x650mm 
 
重量 
 70kg 
 
升溫較快速度 
 0~30℃/min（建議不**過20℃） 
 
產品特點 
 可裝真空裝置，能在多種氣氛下工作，50段程序控溫 
 
加熱元件 
 含鉬電阻絲 
 
常用溫度 
 ≤1100℃ 
 
較高溫度 
 1200℃ 
 
控溫方式 
 50段智能化程序PID模糊控制 
 
恒溫精度 
 ±1℃ 
 
控溫儀表 
 智能溫控儀 
 
密封方式 
 全封閉 
 
爐膛 
 氧化鋁多晶纖維爐膛，設計合理，經久耐用，保溫性能好，節能 
 
測溫元件 
 K型熱電偶 
 
爐門結構 
 上開式 
 
主要配件 
 密封法蘭1套，坩堝1個，真空泵1臺，高溫手套1副,熱電偶1根等 
 
較大真空極限 
 ≤0.1MPa 
 
 
  
 
以上數據僅供參考，爐膛尺寸可根據客戶要求定制，外形尺寸如有更改，恕不另行通知! 
 

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