質譜成像基質微噴霧系統
- 作者:華儀行(北京)科技有限公司 2018-11-16 15:29 2670
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質譜成像基質微噴霧系統
MALDI質譜成像技術已成為生物標志物研究、醫學、藥物研究等方面的重要手段,自動化的基質噴涂技術可大大提高MALDI質譜成像的靈敏度和分辨率。HST公司研發的μMatrix(矩陣觀察)微噴霧系統是質譜組織成像領域內一款新型的基質制備設備。通過電腦控制的壓電式模塊,只需要pl的上樣量,即可產生高重現性和均一性的Matrix制備。在組織多肽領域,該系統也可以制備均質的酶消化樣本。與市場上傳統的納升級噴霧系統不同,此微噴霧系統采用全新的精細霧點控制模塊,率先在細微的組織表面高分辨率的精確均勻噴灑各種基質。也可將胰蛋白酶直接噴灑在組織表面,進行表面蛋白質原位酶解,不但能看到目標蛋白質的分布,而且能通過質譜儀直接鑒定蛋白質。
■ 技術指標
?應用精度:±50μm
?噴霧分辨率:5760*1440 dpi
?樣品槽:支持6個樣品瓶位
?噴霧速度:大約30秒 (在 5×5 cm2區域上)
?自動應用控制器:定量重復噴霧
?板支架:384孔格式板,專用銦錫導電載玻片(ITO slide glass)
?加熱板:溫度范圍20?50℃
?壓電式噴霧單元:3 PL /最少
操作簡單
其軟件直觀的用戶界面可以精確控制基質的數量、斑點面積以及位置。
可重現性
通過使用pL-級壓電式噴霧單元模塊,為矩陣觀察提供各種基質溶液的高還原性斑點,如HCCA (L) 和 DHB (R)。
μMatrix Spotter產品優勢
?胰蛋白酶溶液和優化的溶劑混合液噴涂在組織切片上,可用于MALDI質譜成像實驗。
?μMatrix Spotter的操作軟件可以精確選擇基質打印區域,從而盡量減少基質溶液的使用。
?通過壓電式噴霧單元在組織切片上方的垂直“PL”噴霧可實現打印區域基質的一致性。
?MALDI MS成像的組織提取物可實現少量重復打印控制。重復數量和干燥時間可根據個個實驗的目的進行優化控制。
?可同時打印4個氧化銦錫載玻片。
專業的質譜載樣臺
·疏水性和親水性結構設計
·基質噴霧細而均勻
·基質用量少
·一次性使用
μ陣列質譜載樣臺
·均勻密點陣列→HTS專有
·μ焦點技術→高靈敏性
·一次性使用
·高成像性
氧化銦錫涂層質譜載玻片
·經濟性,高成像性
·穩定的氧化銦錫涂層
·25 x 75 mm, I型或II型
·厚度0.7 mm 和 1.1 mm
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材料表面處理儀器:等離子清洗機、紫外臭氧清洗機(UVO)
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