光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無毒無害的產物，而傳統的高溫焚燒技術則需要在較高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規的催化、氧化方法亦需要幾百度的高溫。
從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發產生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有**優點，具體研究中可根據需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是較廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。
廢氣處理設備，主要是運用不同工藝技術，通過回收或去除減少排放尾氣的有害成分，達到保護環境、凈化空氣的一種環保設備，讓我們的環境不受到污染。

吸收設備
吸收法采用低揮發或不揮發性溶劑對VOCs進行吸收，再利用VOCs和吸收劑物理性質的差異進行分離。
含VOCs的氣體自吸收塔底部進入塔內，在上升過程中與來自塔**的吸收劑逆流接觸，凈化后的氣體由塔**排出。吸收了VOCs的吸收劑通過熱交換器后，進入汽提塔**部，在溫度**吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應的工藝調整。
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