HDDR氫化爐是在北京科技大學(xué)肖耀福教授指導(dǎo)下，由山西金開源實(shí)業(yè)有限公司設(shè)計制造的。該氫化爐專門用于以HDDR工藝生產(chǎn)各向異性粘接釹鐵硼磁粉。 主要技術(shù)指標(biāo)如下： 1． 反應(yīng)罐轉(zhuǎn)速3—15轉(zhuǎn)/分連續(xù)可調(diào)，額定裝料100Kg. 2． 較大溫升1000℃；200℃升溫至900℃可控升溫時間可不大于25min,900℃降溫至300℃時間可不大于40min. 3． 溫度控制偏差不大于5℃。 4． 較大真空度可達(dá)5E-3Pa，較大壓升率不大于0.6Pa/h. 5． 在1-100KPa范圍內(nèi)壓力控制偏差不大于3KPa. 6． 在工藝參數(shù)設(shè)定之后可實(shí)現(xiàn)整個工作過程的全自動循環(huán)

注冊資金:人民幣1501萬元