供應石久Ni鎳片 電子半導體**高純鎳片
- 作者:北京石久高研金屬材料有限公司 2018-09-03 13:16 1670
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詳細說明
鎳,高純鎳片,高純鎳粒,高純鎳靶
化學符號:Ni
純 度:99.99%,99.999%
規 格:10*10*2,6*6,3*3,1-15mm不規則顆粒
密 度:8.9
熔 點:1450℃
原子量:58.69
沸點約:2737℃
電阻率/μΩ.cm:6.84
電阻溫度系數/℃-1:6.84×10-3
汽化溫度/℃:1382
蒸發溫度:飽和蒸汽壓為1.33Pa時為1530℃
蒸發源材料:(BeO、Al2O3)坩堝、W(絲、片)
優 點:鎳具有磁性、良好的抗氧化性、鎳的抗腐蝕能力很強、強度和塑形也很好。能與難熔金屬形成合金,形成好附著力膜。
用 途:用作金屬材料,用作電鍍,用作催化劑,用作**電池材料,制作顏料和染料,用于陶瓷工業,專用用于半導體和電子行業。
北京石久高研金屬材料有限公司(簡稱石久高研)成立于2005年,是經北京市科學技術**確認的**企業。地理位置優越,交通便利。 自公司成立以來受到有色金屬研究總院、中國科學院、清華大學等科研院校的大力支持,并保持著長期穩定的合作關系。
石久高研致力于鍍膜靶材和蒸發料的研發和生產工作,為電子行業、玻璃工業、數據存儲、裝飾鍍膜、工具鍍膜等行業的鍍膜企業提供**的靶材和蒸發料。公司擁有*的鍍膜材料領域的專業人才,具有雄厚的研發、生產實力。隨著近年來高科技領域內薄膜的興起和蓬勃發展,特別是微電子與光電子產業迅速發展,對鍍膜材料的要求也達到了一個新的高度,公司密切關注國內外鍍膜及鍍膜材料的發展方向,為相關行業提供**、優質的鍍膜材料。
目前公司主要生產銷售的產品包括金屬基、氧化物、氟化物及其它化合物類型的光學薄膜材料,主要應用于:濺鍍膜、復合膜、彩色膜、增透膜、透紫外膜、激光裝置濾光片、保護膜、透明導電膜、變色膜、優良的寬帶增透膜、磁性薄膜、可見光區增透膜、紅外增透膜、分光膜、多層膜、高反射膜、電阻膜、熱反射膜、冷光燈、冷光碗及各種鏡片鍍膜,真空鍍膜材料,陶瓷濺射靶材,金屬濺射靶材,合金濺射靶材,高純鈦氧化物,陶瓷靶材,金屬靶材,合金,高**屬,稀貴金屬,金銀鉑鈀,銦絲,錫絲,鋁絲,各種化合物靶材,IZO,AZO,ITO,IZO,氧化鋅,氮化鈦,二硼化鋯、鈦酸鍶,二硼化鈦,二氧化鉿,氧化鋁,氮化硼,氮化鈦,氮化硅靶、碳化硅靶,多晶硅靶、二氧化硅靶,鈦靶、鎳靶、鋁靶,銅靶、鋅靶、錫靶,鋯靶、鈷靶、金靶等材料。
我們期待與您的精誠合作!
產品價格:3200.00 元/公斤 起
發貨地址:北京北京包裝說明:不限
產品數量:1000000.00 公斤產品規格:10*10*2,6*6,3*3,1-15mm不規則顆粒
信息編號:80823490公司編號:14278010
Q Q號碼:3373603340
相關產品:金屬靶材,濺射靶材,陶瓷靶材,鍍膜材料,光學鍍膜材料,真空鍍膜材料
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