■ 微弧氧化工藝簡介
微弧氧化(Microarc oxidation, MAO)又稱等離子體氧化(Microplasma oxidation,MPO)，是通過電解液與相應電參數的組合，在鋁、鎂、鈦及其合金表面依靠弧光放電產生的瞬時高溫高壓作用，生長出以基體金屬氧化物為主的陶瓷膜層。在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子氧化同時存在，因此陶瓷層的形成過程非常復雜，至今還沒有一個合理的模型能*描述陶瓷層的形成。
   微弧氧化工藝將工作區域由普通陽極氧化的法拉*域引入到高壓放電區域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，較大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構至密，韌性高，具有良好的**、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術具有操作簡單和易于實現膜層功能調節的特點，而且工藝不復雜，不造成環境污染，是一項全新的綠色環保型材料表面處理技術，在航空、航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。
 
■ 設備技術性能：
 
1．  彩色觸摸屏控制系統，任意設定電流、電壓、時間及脈沖個數組合，并可存儲和調用工藝參數。
2．  正負脈沖電壓輸出，并可任意選擇。
3．  時間設定（0~999分鐘）。
4．  具有手動恒壓，自動恒流運行方式。
5．  正電壓0~750V，負電壓0~300V。
6．  占空比5%~50%。
7．  脈沖頻率100~1000Hz。
8．  具有過流、過壓、限壓、缺水、缺相、過熱等一系列保護裝置。

 

注冊資金:人民幣50萬元