真空蒸鍍工藝一般包括基片表面清潔、鍍膜前的準備、蒸鍍、取件、鍍后處理、檢測、成品等步驟。(1)基片表面清潔。真空室內壁、基片架等表面的油污、銹跡、殘余鍍料等在真空中易蒸發，直接影響膜層的純度和結合力。鍍前必須清沽干凈。

主要特點/優勢：

★ ? ? 完全封閉的系統框架設計，外觀更漂亮，常州蒸鍍設備，使用更安全；是一臺兼具美學和用戶操控體驗的全新升級產品；

★ ? ? 前開門真空腔體，蒸鍍設備，方便取放基片、更換蒸發舟、添加蒸發材料以及真空室的日常維護；

★ ? ? 1200L/s分子泵作為主抽泵，真空極限高達5×10-5Pa(3.75×10-7Torr)；另可選進口磁懸浮分子泵或者低溫泵作為主抽泵，真空極限高達3×10-6Pa(2×10-8Torr)；

蒸鍍

鍍前準備

鍍膜室抽真空到合適的真空度，對基片和鍍膜材料進行預處理。加熱基片，其目的是去除水分和增強膜基結合力。在高真空下加熱基片，能夠使基片的表面吸附的氣體脫附。然后經真空泵抽氣排出真空室，有利于提高鍍膜室真空度、膜層純度和膜基結合力。然后達到一定真空度后．先對蒸發源通以較低功率的電，進行膜料的預熱或者預熔，南京蒸鍍設備，為防止蒸發到基板上，用擋板遮蓋住蒸發源及源物質，然后輸入較大功率的電，將鍍膜材料迅速加熱到蒸發溫度，蒸鍍時再移開擋板。

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