真空鍍膜

過去的鍍膜多采用電鍍法和化學鍍法，存在著厚度難以控制、膜層均勻性差、附著力差等問題，三廢污染特別嚴重，在人們環保意識逐步加強的今天，其發展已受到了多方面的制約。 綠色鍍膜技術工藝過程簡單，對環境友好，無污染，耗材少，成膜均勻致密，常熟蒸鍍設備，與基體的結合力強。與傳統的電鍍法相比，真空鍍膜技術具有很多的優點，如裝飾效果好，蒸鍍設備，金屬質感強，易于操作等。特別在非金屬物件的應用上，有著傳統電鍍無法比擬的優勢。

真空蒸鍍

一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，蒸鍍設備，而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個沖擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上形成薄膜。

一般來說，利用濺鍍制程進行薄膜披覆有幾項特點：

(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

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