一、設備概況
設備名稱：RCA濕法腐蝕清洗機
整機尺寸：具體尺寸根據實際圖紙確定
二、使用對象
硅晶片2-12inch
三、適用領域
半導體、太陽能、液晶、MEMS等
四、設備用途
硅晶片化學腐蝕和清洗的設備
五、設備包括
設備主體、電氣控制部分、化學工藝槽、純水清洗槽等；并提供與廠務供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統配套的接口等。
六、主體構造特點
1、設備為半敞開式，主體使用進口WPP15和10mm厚板材，結構設計充分考慮長期工作在酸腐蝕環境，堅固耐用，雙層防漏，機臺底盤采用德國產瓷白PP板，熱焊接而成，可長期工作在酸堿腐蝕環境中
2、主體：設備為半敞開式，主體使用進口WPP15和10mm厚板材，結構設計充分考慮長期工作在酸腐蝕環境，堅固耐用，雙層防漏，機臺底盤采用德國產瓷白PP板，熱焊接而成，可長期工作在酸堿腐蝕環境中；
3、骨架：鋼骨架+PP德國勞施領板組合而成，防止外殼銹蝕。
4、儲物區：位于工作臺面左側，約280mm寬，儲物區地板有漏液孔和底部支撐；
5、安全門：前側下開透明安全門，腳踏控制；
6、工藝槽：模組化設計，腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個統一的承漏底盤中。底盤采用滿焊接工藝加工而成，杜絕機臺的滲漏危險；
7、管路系統：位于設備下部，所有工藝槽、管路、閥門部分均有清晰的標簽注明；藥液管路采用PFA管，純水管路采用白色NPP噴淋管，化學腐蝕槽廢液、沖洗廢水通過**管道排放；
8、電氣保護：電器控制、氣路控制和工藝槽控制部份在機臺**部電控區，電氣元件有充分的防護以免酸霧腐蝕以**設備性能運行穩定可靠；所有可能與酸霧接觸的電氣及線路均經PFA防腐隔絕處理，電氣柜CDA/N2充氣保護其中的電器控制元件；
9、排風：后部排風和下沉式設計，風量可調節，對操作員有安全保護；
10、送風：設備**部有FFU百級凈化送風裝置，設備沿前側板鑲嵌入墻體，保證后上部送風；
11、照明：工作區**部配有雙光日光燈照明；
12、機臺支腳：有滑輪裝置及固定裝置，并且有高低調整及鎖定功能。
13、安全**：完善的報警和保護設計，排風壓力、液位、排液均有硬件或軟件互鎖，直觀的操作界面，清晰的信息提示，**了生產、工藝控制和安全性三色警示燈置于機臺上方明顯處。

南通華林科納半導體設備技術有限公司成立于2008年3月，投資4500萬元。主要從事半導體、太陽能、FPD領域濕制程設備的設計、研發、生產及銷售；同時代理半導體、太陽能、FPD領域其它國外設備，負責其中國市場的開發、推廣。

    公司自有產品包括半導體前段、后段、太陽能、平板顯示FPD、LED、MEMS應用中的各種濕制程設備，例如硅片濕法清洗、蝕刻，硅芯硅棒濕法化學處理，液晶基板清洗，LED基片顯影脫膜等。 

    現公司代理產品包括半導體、太陽能硅片的檢測裝置，包含美國FSM公司的薄膜應力檢測、硅片翹曲度檢測、薄膜厚度檢測、硅片平整度檢測設備等；以及美國PET公司的太陽能模擬器、I-V曲線數據采集系統、硅片表面質量檢測裝置等。 

    公司秉承客戶至上的服務宗旨,必將在以后的合作互動中實現雙方的共同發展；在此期待廣大新老客戶的光臨訪問！
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