硅靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，主要使用在微電子、顯示器、存儲器以及光學鍍膜等產業上，用以濺射用于尖端技術的各種薄膜材料。光學鍍膜產業由于使用靶材在大面積的鍍膜玻璃上，無疑是較大的應用市場，其次則為微電子產業，而其對靶材和濺射薄膜的品質要求是較苛刻的。
　　本公司采用鑄造法生產多晶硅靶材，產品純度高、電阻率低，無裂紋，并能滿足客戶對不同形狀和尺寸的需求。產品采用超聲波清洗，真空包裝。
　　硅靶材技術指標：
　　生產工藝：鑄造法
　　類型：   多晶
　　純度：   ≥99.999%
　　相對密度：2.33g/cm3
　　電阻率 ：≤0.2 歐cm
 尺寸 ：按需切割

福州鴻晶化工科技有限公司是一家專門從事硅業開發生產和銷售的企業,公司主要生產高純度硅粉、真空濺射硅靶材及光學鍍膜材料產品,主要用于半導體芯片、平板液晶顯示器(LCD)、裝飾和功能鍍膜工業、太陽能電池板、據儲存工業(光盤工業)、光通訊工業、玻璃鍍膜(建筑玻璃和汽車玻璃)工業、抗腐蝕抗磨損(表面改性)等行業,質量達到**較**水平。公司可根據客戶需求生產各種級別的產品,歡迎來電垂詢: 李經理