硅靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，主要使用在微電子、顯示器、存儲器以及光學(xué)鍍膜等產(chǎn)業(yè)上，用以濺射用于尖端技術(shù)的各種薄膜材料。光學(xué)鍍膜產(chǎn)業(yè)由于使用靶材在大面積的鍍膜玻璃上，無疑是較大的應(yīng)用市場，其次則為微電子產(chǎn)業(yè)，而其對靶材和濺射薄膜的品質(zhì)要求是較苛刻的。
　　本公司采用鑄造法生產(chǎn)多晶硅靶材，產(chǎn)品純度高、電阻率低，無裂紋，并能滿足客戶對不同形狀和尺寸的需求。產(chǎn)品采用超聲波清洗，真空包裝。
　　硅靶材技術(shù)指標：
　　生產(chǎn)工藝：鑄造法
　　類型：   多晶
　　純度：   ≥99.999%
　　相對密度：2.33g/cm3
　　電阻率 ：≤0.2 歐cm
 尺寸 ：按需切割

福州鴻晶化工科技有限公司是一家專門從事硅業(yè)開發(fā)生產(chǎn)和銷售的企業(yè),公司主要生產(chǎn)高純度硅粉、真空濺射硅靶材及光學(xué)鍍膜材料產(chǎn)品,主要用于半導(dǎo)體芯片、平板液晶顯示器(LCD)、裝飾和功能鍍膜工業(yè)、太陽能電池板、據(jù)儲存工業(yè)(光盤工業(yè))、光通訊工業(yè)、玻璃鍍膜(建筑玻璃和汽車玻璃)工業(yè)、抗腐蝕抗磨損(表面改性)等行業(yè),質(zhì)量達到**較**水平。公司可根據(jù)客戶需求生產(chǎn)各種級別的產(chǎn)品,歡迎來電垂詢: 李經(jīng)理