OG-ACE緊湊型臺式反應(yīng)離P/N: OG-ACE緊湊型臺式反應(yīng)離子刻蝕（RIE）系統(tǒng)Compact Table-Top RIE Systems
 
 ACE 多功能臺式等離子處理系統(tǒng)基本應(yīng)用
 ? A – Ashing 光刻膠灰化、Activation材料表面活化
 ? C – Cleaning 等離子清洗
 ? E – Etching 等離子刻蝕
 ? 各向同性的等離子刻蝕（Isotropic Plasma Etching） 
 ? 各向異性的反應(yīng)離子刻蝕（Anisotropic RIE）
 
 ACE 多功能臺式等離子處理系統(tǒng)其它應(yīng)用
 ? 去除有機物 Organic Removal；
 ? PDMS鍵合 PDMS Bonding;
 ? 有機物預(yù)鍵合 Oxides Pre-Bonding;
 ? 失效分析 Failure Analysis;
 ? 電子器件及混合物清洗Devices, Hybrids Cleaning
 
 ACE 等離子系統(tǒng)的技術(shù)規(guī)格優(yōu)勢
 ? 標(biāo)準(zhǔn)射頻功率：10~150W @ 13.56 MHz (功率適中，價位較300W低廉)；
 ? 自動操作計時器：射頻電源實際放電，艙內(nèi)輝光后，開始計時及定時；
 ? 參數(shù)顯示：旋鈕切換顯示射頻功率設(shè)定值、艙內(nèi)實際功率、艙內(nèi)真空度等（較觸摸屏略簡化，但經(jīng)濟適用，滿足基本功能需要）；
 ? LED系統(tǒng)自檢外設(shè)卡：LED顯示器用于系統(tǒng)模塊狀態(tài)故障自檢（***人員維護，根據(jù)LED顯示情況即可判斷故障所在，并采取修正措施）；
 ? 真空處理艙建造材料：艙體采用陽極氧化6061-T6航空級鋁材（材質(zhì)性能穩(wěn)定，且不會與材料起反應(yīng)，造成二次污染）；
 ? 樣件支架：雙用途支架，用于不同工藝應(yīng)用即標(biāo)準(zhǔn)等離子工藝處理 、 反應(yīng)離子刻蝕（RIE）工藝處理(僅通過手動切換，無復(fù)雜的電子部件，性能穩(wěn)定)；
 ? 配套真空泵浦使用工藝氣體: 大氣、氬氣、氮氣、活性氣體如氧氣及氟化氣體如四氟化碳(抽氣速率為166 l/min, 5.8 CFM, 10 m3/hr、真空度可達5x10-4 Torr, 6.7x10-2 Pa, .0006 mbar)；能夠**抽空真空艙、實現(xiàn)等離子輝光；
 ? 系統(tǒng)整機經(jīng)過*檢測、通過CE認(rèn)證；
 
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