蝕刻

蝕刻(etching)是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。蝕刻技術可以分為濕蝕刻(wet etching)和干蝕刻(dry etching)兩類。

通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻（photochemical etching），指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，金屬蝕刻，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

蝕刻就是利用合適的化學溶液腐蝕去除材質上未被光阻覆蓋（感光膜）的部分，達到一定的雕刻深度。

工藝流程

曝光法：工程根據圖形開出備料尺寸-材料準備-材料清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-蝕刻→脫膜→OK

網印法：開料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→絲網印→蝕刻→脫膜→OK

蝕刻網是指使用腐蝕性液體或者激光雕刻等手段，對金屬板材進行蝕刻，從而形成的鏤空網。用于集成電路印刷，熒光屏電子格柵，**過濾，微電極元件等。

蝕刻網技術優勢

1、此技術改進了傳統的金屬處理方法。

2、這種技術可以通過數據，圖表.設計及復雜的柱狀等來加工凹凸的金屬產品。

3、蝕刻技術可以用于制作為孔型及各種形式。

蝕刻廣泛應用于集成電路、熒光顯示屏、**過濾、微電極等方面。

蝕刻適用范圍：

1、可加工的金屬種類：各種金屬、合金及不銹鋼板材、帶材；

2、板材厚度范圍：2mm及以下薄板，特別適用0.5mm以下薄板；

3、行業用途：（1）石油、化工、食品、制藥用精密過濾網、過濾板、過濾筒、過濾器；（2）電子行業用金屬漏板、蓋板、平面引腳、引線框架、金屬基片；（3）精密光學及機械平面零件、彈簧零件；（4）摩擦片及其它凹凸型平面零件；（5）金屬標牌及圖案復雜的金屬裝飾板和精美工藝品。

蝕刻技術讓材料化腐朽為神奇

? 提到“腐蝕”，覆銅板蝕刻，人們往往只想到他的危害，在今日**科學技術的精心包裝之下，腐蝕也能發揮它*特的應用價值，展現一道亮麗的風景。

? 蝕刻表面處理是利用溶解腐蝕原理，將要蝕刻區域的涂膜或保護層在接觸化學溶液時被有效去除，形成凹凸或者鏤空成型的效果。廣泛地被使用于減輕重量、儀器鑲板、銘牌及傳統加工法難以加工之薄形工件等的加工；經過不斷改良和工藝設備發展，亦可以用于航空、機械、化學工業中電子薄片零件精密蝕刻產品的加工，特別在半導體制程上，蝕刻更是**的技術。蝕刻表面處理主要包括光蝕刻、電化學蝕刻和激光蝕刻。

? （一）光蝕刻表面處理

? 光蝕刻表面處理簡稱光刻，利用照相手段制作抗蝕膜像，用來保護表面，蝕刻，在金屬、塑料等上面，借助化學腐蝕劑進行腐蝕產生表面紋理的方法。可以實現珠寶首飾，銘牌和獎杯的光蝕刻表面處理，可以達到50-100微米/5分鐘的高刻蝕速度，方孔網蝕刻，適合單件或大批量。

（二）電化學蝕刻

? 電化學蝕刻可以在小直徑的棒材或線材上形成**鋒利尖端。

? Point Technologies公司利用電化學蝕刻加工技術，將棒材或線材尖端浸入通電電解液中。通過一種名為“受控金屬腐蝕”的過程將部件*的部分材料去除，或通過導電在表面沉積鎳或其他金屬來形成部件，制造出*的尖利程度和形狀可控制的針類和手術器械等部件，如電外科使用**鋒利的亞微米電極的鎢尖頭。電化學蝕刻成型醫療部件包括：微米級視網膜植入物、微型孔式小公差水刀噴口。但該技術相對更繁瑣，成本較高。

（三）激光蝕刻

激光蝕刻比其他兩種方法更加**劃算。就像在太陽光下用聚光鏡聚光一樣的方式，普林斯頓大學的激光蝕刻系統幾乎可以對所有東西的表面進行納米級的陣列圖案刻制。利用魯棒性的微芯片表面陣列蝕刻技術在一個不規則平面上刻出了圖案清晰的普林斯頓大學的校徽圖案，在電腦控制下可以達到非常高的精度，蝕刻紋路寬度小于100納米。但是采用激光切割設備效率較低，無法滿足大批量加工。

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