真空管鍍膜表面有一層灰塵會影響真空鍍膜的整體效果，如何減少真空鍍膜的灰塵呢？
1、使用的源材料要符合必要的純度要求。
2、樣品取出后放置環境要注意清潔的問題。
3、鍍膜一段時間后，真空室內壁必須要清潔處理。
4、清洗襯底材料，必須要做到嚴格合乎工藝要求。
5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。
6、適當的增加環境的濕度，有利于降低周圍環境的懸浮固體顆粒物。
7、技術上明確允許的較大顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數量的上限大致是多少。
8、室內空氣流動性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質涂料粉刷。
真空鍍膜設備是什么？

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。 
需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。 
蒸發鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點－島狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來，并且較終沉積在基片表面，經歷成膜過程，較終形成薄膜。
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