真空鍍膜技術一般分為兩大類，即物理氣相沉積（PVD）技術和化學氣相沉積（CVD）技術。

?物理氣相沉積技術是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法。制備硬質反應膜大多以物理氣相沉積方法制得，它利用某種物理過程，如物質的熱蒸發，或受到離子轟擊時物質表面原子的濺射等現象，實現物質原子從源物質到薄膜的可控轉移過程。物理氣相沉積技術具有膜/基結合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩定的合金膜和重復性好等優點。同時，物理氣相沉積技術由于其工藝處理溫度可控制在500℃以下，因此可作為較終的處理工藝用于高速鋼和硬質合金類的薄膜刀具上。由于采用物理氣相沉積工藝可大幅度提高刀具的切削性能，人們在競相開發高性能、高可靠性設備的同時，也對其應用領域的擴展，尤其是在高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具中的應用進行了更加深入的研究。

化學氣相沉積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，清溪激光鐳雕加工廠，主要包括常壓化學氣相沉積、低壓化學氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相沉積等。

真空鍍膜 主要利用輝光放電將ya氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好，但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的ya氣離子化，造成靶與ya氣離子間的撞擊機率增加，提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍，而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍，基本的原理是在真空中利用輝光放電(glowdischarge)將ya氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面，電漿中的陽離子會加速沖向作為被濺鍍材的負電極表面，這個沖擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上形成薄膜。

一般來說，清溪供應激光鐳雕廠，利用濺鍍制程進行薄膜披覆有幾項特點：

(1)金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。

(2)再適當的設定條件下可將多元復雜的靶材制作出同一組成的薄膜。

(3)利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體，可以制作靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。

(4)靶材輸入電流及濺射時間可以控制，容易得到高精度的膜厚。

(5)較其它制程利于生產大面積的均一薄膜。

(6)濺射粒子幾不受重力影響，靶材與基板位置可自由安排。

(7)基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上，且由于濺射粒子帶有高能量，在成膜面會繼續表面擴散而得到硬且致密的薄膜，同時此高能量使基板只要較低的溫度即可得到結晶膜。

(8)薄膜形成初期成核密度高，可生產10nm以下的較薄連續膜。

(9)靶材的壽命長，可長時間自動化連續生產。

(10)靶材可制作成各種形狀，配合機臺的特殊設計做更好的控制及較有xiao率的生產。

維護和保養

1、真空鍍膜設備每完成200個鍍膜程序以上，應清潔工作室一次。方法是：用燒jian（NaOH）飽和溶液反復擦洗真空室內壁，（ 注意人體皮膚不可以直接接觸燒jian溶液，清溪激光鐳雕加工廠家，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽you清洗精抽閥內的污垢。

擦洗真空室內壁，（ 注意人體皮膚不可以直接接觸燒jian溶液，激光鐳雕，以免灼傷）目的是使鍍上去的膜料鋁（AL）與NaOH發生反應，反應后膜層脫落，并釋放出氫氣。再用清水清洗真空室和用布沾汽you清洗精抽閥內的污垢。

2、當粗抽泵（滑閥泵，旋片泵）連續工作一個月（雨季減半），需更換新油。方法是：擰開放油螺栓，放掉舊油，再將泵啟動數秒，使泵內的舊油完全排放出來。擰回放油螺栓，加入新油至額定量（油視鏡觀察）。連續使用半年以上，換油時應將油蓋打開，用布擦干凈箱內污垢。

3、擴散泵連續使用6個月以上，抽速明顯變慢，或操作失當，充入大氣，拆去聯結水管，卸下電爐盤，將一級噴嘴擰出，先用汽you將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機。在重新開機前，要注意檢漏工作。方法是：啟動維持泵，關好大門，數分鐘后，觀察擴散泵部分真空度是否達到6X10帕，否則要進行檢漏。檢查聯接處是否裝密封膠圈，或壓壞密封圈。排除漏氣隱患后方可加熱，否則擴散泵油會燒環，無法進入工作狀態。

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