抗污膜(**膜)
(1)原理
鏡片表面鍍有多層減反射膜后,鏡片特別容易產生污漬,而污漬會破壞減反射膜的減反射效果。在顯微鏡下,我們可以發現減反射膜層呈孔狀結構,所以油污特別容易浸潤至減反射膜層。解決的方法是在減反射膜層上再鍍一層具有抗油污和抗水性能的**膜,而且這層膜必須非常薄,以使其不會改變減反射膜的光學性能。
(2)工藝
抗污膜的材料以氟化物為主,有二種加工方法,一種是浸泡法,一種是真空鍍膜,麻涌手機殼電鍍加工價格,而較常見的方法是真空鍍膜。而較常用的方法是真空鍍膜。當減反射膜層完成后,可使用蒸發工藝將氟化物鍍于反射膜上。抗污膜可將多孔的減反射膜層覆蓋起來,并且能夠將水和油與鏡片的接觸面積減少,使油和水滴不易粘附于鏡片表面,因此也稱為防水膜。
對于有機鏡片而言,手機殼電鍍,理想的表面系統處理應該是包括抗磨損膜、多層減反射膜和**膜抗污膜的復合膜。通常抗磨損膜鍍層較厚,約為3-5mm,多層減反射膜的厚度約為0.3um,**層抗污臘鍍較薄,約為0.005-0.01mm。以法國依視路公司的鉆晶(crizal),復合膜為例,在鏡片的片基上首先鍍上具有有機硅的耐磨損膜;然后采用IPC的技術,用離子轟擊進行鍍減反射膜前的預清洗;清洗后采用高硬度的二氧化鋯(ZrO2)等材料進行多層減反射膜層的真空鍍制;最后再鍍上具有110的接觸角度的**膜。鉆晶復合膜技術的研制成功表明了有機鏡片的表面處理技術達到了一個新的高度。
電鍍的鍍液與工藝選擇
一)鍍液選擇
? 鍍液與工藝參數的選定,是產品進行電鍍前必要的工作。鍍液與所用的工藝條件,須由產品的要求來確定。目前能采用的工藝已經很多,不同的配方和工藝條件可以 很容易地查到。選擇鍍液的配方和配套的工藝,首要的是能針對性地滿足產品的質量要求,其次便是考慮可能得以實施的環境和條件。
? 產品要求電鍍,一般大多是為了裝飾防護或者增強其功能。無論是何種目的,所鍍出的鍍層都必須是一層均勻的完整覆蓋,這是較基本的要求。如果被鍍件形狀復 雜,或具有小的內孔、凹陷或盲孔,或者材料與表面很特殊,電鍍工藝就必須細致研究分析后才確定,以便滿足這些特殊情況。鍍液是否能具備足夠的宏觀與微觀分 散能力,顯然是必須要考慮的。
? 通常電鍍溶液的配方大體上可以分為兩類。按照電極上離子交換時具備的形態,簡單的水合離子和加入絡合劑或鰲合劑后生成的較復雜離子。在分散能力、電鍍速 度、鍍層結晶結構和特性等方面都有明顯差別。如果零件形狀并不特別復雜,鍍層也能滿足要求時,宜盡量選用較簡單的鍍液配方。這樣不僅成本低,易于控制和管 理,而且更重要的是污水也較易治理。
薄膜厚度的測量
隨著科技的進步和精密儀器的應用,麻涌專業手機殼電鍍廠,薄膜厚度測量方法有很多,麻涌手機殼電鍍工廠,按照測量的方式分可以分為兩類:直接測量和間接測量。直接測量指應用測量儀器,通過接觸(或光接觸)直接感應出薄膜的厚度。
常見的直接法測量有:螺旋測微法、精密輪廓掃描法(臺階法)、掃描電子顯微法(SEM);
間接測量指根據一定對應的物理關系,將相關的物理量經過計算轉化為薄膜的厚度,從而達到測量薄膜厚度的目的。
常見的間接法測量有:稱量法、電容法、電阻法、等厚干涉法、變角干涉法、橢圓偏振法。按照測量的原理可分為三類:稱量法、電學法、光學法。
常見的稱量法有:天平法、石英法、原子數測定法;
常見的電學法有:電阻法、電容法、渦流法;
常見的光學方法有:等厚干涉法、變角干涉法、光吸收法、橢圓偏振法。
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